半導體行業廢（fèi）氣處理
半導體行業廢氣主要指的是（shì）電（diàn）解質、矽、金屬、化學物質和有機物質等的廢氣。半導體（tǐ）工藝廢氣中的電解質廢氣主要來（lái）源（yuán）於表麵處理過程（chéng）的清洗工序，而矽、金屬和化學物質廢氣主要來源於製造工藝中的燒結、熔體澆注、清洗、蒸鍍和磷化等工（gōng）序。有機物（wù）質廢（fèi）氣主（zhǔ）要（yào）來源於（yú）製（zhì）造過程中使用的有（yǒu）機溶劑（jì）和有機物質的燃燒反應。
半導體（tǐ）廢氣處理方法
目前，半導體行業有機廢（fèi）氣處理方（fāng）法主要以下（xià）幾種方法：1、活性炭吸附法；2、燃燒法；3、化學法。酸堿性廢氣可以選用洗滌塔、噴淋塔、吸收塔。
活性炭（tàn）吸附是（shì）利用（yòng）活性炭（tàn）的吸附（fù）性質，通過接觸吸附，使廢（fèi）氣中的有害物質與活性炭表麵結合，從（cóng）而（ér）達（dá）到淨化廢氣的目的（de）。燃燒法是將廢氣中的有（yǒu）害物質通過燃燒的方式銷毀，減少對環境的汙染。化學吸收是（shì）利（lì）用吸收劑的吸收性質，使廢氣中的有害物質與吸收劑發生化學（xué）反應或物理反應，使其（qí）轉化為無害物質，從（cóng）而淨化廢氣（qì）。
目（mù）前，半導體行業（yè）廢氣排放標準不同步，我國半導體行業廢氣排（pái）放標準主要（yào）以《半導體工業大氣汙染物排放標準》為主，但是這個標（biāo）準的主要適用對象是生產芯片的企業，而且許多（duō）地區都有自己（jǐ）的排放標準，所以最終需要參考當地環保要求。
隨著半導體行業的不斷進（jìn）步，半導體行業的廢（fèi）氣處（chù）理技術（shù）也在不斷發展。根據不（bú）同的工（gōng）藝流程（chéng），廢氣處理（lǐ）設備也會有所不同，不僅可以滿足環保（bǎo）排放標準，還能大大（dà）降低企業（yè）處理成本（běn）。
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