半导体行业VOCs废气处理解（jiě）决方案

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半导体行业中（zhōng）使用的清洗剂、显影剂、光刻（kè）胶、蚀刻液等溶剂中含有大量有机物成分。 在工艺过程中，这些有机溶剂大部分通过（guò）挥发成为废（fèi）气排（pái）放。

     目前，针对这种气体排放，一 般采用吸附、焚烧（shāo）或两者相结合的处（chù）理方法。 吸附是利用多孔（kǒng）性固体（tǐ）吸附剂处理混合气体，使其中所含的一种或多（duō）种（zhǒng）组分吸附于固体 表面上，达到分（fèn）离的目的。吸附剂选择性高，能分开其他过程难以分开的混合（hé）物，有效地清（qīng） 除（或回收）浓度很低的有害物质，净化效率高，设备简单，操作方便，且能实现自动（dòng）控制。

但固体吸附剂的吸附容量小，需要大量的吸附剂（jì），设备庞大，且吸附后吸附（fù）剂（jì）需要再生（shēng）处理，是吸附处理的主要缺点。半导体生产场所挥发出来的有机废气通过局部排风（fēng）罩收集，经管道送至（zhì）吸附（fù）净化系统。一般（bān）采用活性炭作为吸附剂。因为活性炭是非极性吸附（fù）剂，对废气中水蒸气的灵敏度不（bú）高，且价格便宜。 焚烧的（de）方法也广泛用于半导体行业的各种有机废气处理，通过（guò）热氧化将有机（jī）物转（zhuǎn）化为 CO2 和水。同时，焚烧对处理稳定流量和浓度的废气也是一种很好的方法。在热氧化中（zhōng），有机废气流经（jīng）过加热，气相中的有机物被氧化。为节省燃料使用，通常还使用热交换器，回收焚烧产生的热量对进口气体进行预热。对于处理大流量、低浓度的气体，通常都要采用这种方法。 由于半导（dǎo）体行业废气焚烧会产生SiO2，且SiO2会使催化剂钝化，因此半导体行业中很少采用接触氧化的方（fāng）法。

一些半导体生产厂也使用（yòng）旋转浓缩系统富集有（yǒu）机废气，如沸石浓缩转轮。因为半导体（tǐ）工艺过程中有机废（fèi）气具有排放流量大（通常大于（yú） 11039 m3 /小时）和浓度低（通常小（xiǎo）于 25ppmv） 的特（tè）点，使用其它的处理技术难以达到令人满意的处理效率（lǜ）。沸石浓缩（suō）转轮使用内带吸收（shōu）物质的旋转轮，其中的吸收物质部分曝露于废（fèi）气流中。转轮吸收废气（qì）中的（de）挥发性污染物（wù），并使用蒸汽或热将（jiāng）其脱附。脱附的气流中富集了较高浓度的（de）挥（huī）发物，这种低流量、高浓度（dù）的气流能很好地被（bèi）氧（yǎng）化（huà）。旋转浓缩（suō）系统用于（yú）半导体行（háng）业的一个缺点是它对甲醇（chún）亲和力较差，去除率仅为 40-60％。

     总（zǒng）而言之，废气处理方（fāng）面，半导体（tǐ）行业酸、碱废气一般采用相（xiàng）应的碱液吸收（shōu）和酸液吸收进行处理， 工艺方法已非（fēi）常（cháng）成熟，只要适当优化相关工艺参数，能够满足本标准的（de）要求，需要关注的（de）有 机废气的处理。目前（qián）处理有机废气的工艺有吸附法、吸收法、直接燃烧法、催化燃烧法、冷凝（níng）法等，吸附（fù）法采（cǎi）用活性炭直接（jiē）吸附，净化效果（guǒ）好，但是运营成本会很高；吸收法适合（hé）于温度低、中高浓度的废气；直接燃烧法适合于（yú）高浓度、小（xiǎo）风量废气治理；冷凝法适（shì）用于成分相 对单一、浓度高、且有一定回收价值的有机废气。对于半（bàn）导体行业低浓（nóng）度、大风量、成分复杂的有机废气，吸附（fù）法、吸收（shōu）法、燃烧法、冷凝（níng）法均不适（shì）用，比较适用的是（shì）吸附——催化燃（rán）烧法。目前省（shěng）内一些大型半导体企业（yè）已采用沸石转轮浓缩后燃烧，该方（fāng）法适用于大风量、低浓度、常温的有机废气处理，净化效率达到90％以上，浓缩（suō）比达20﹕1，运行费（fèi）用（yòng）较低，设（shè）备处理（lǐ）风量大（dà），占（zhàn）地面积小（xiǎo），不产生二次污染，可持续脱附并处理污染物。根据企业实际运 行（háng）情况，有机废气进气浓度在200mg/m3以上时，处（chù）理（lǐ）效率达到95%；200mg/m3以下时处理 后浓（nóng）度（dù）控（kòng）制在（zài）20mg/m3，可保证废气达标排放。

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