光催化氧化技术，成人免费无码大片a毛片视频环（huán）保为您介绍！

之前有（yǒu）为大家介绍了UV光解和光催化氧化技术里面的光解技术，成人免费无码大片a毛片视频环保小编接着为您介绍光催化技术，一般情况下我们又称其为光氧（yǎng）催化技术。

1、半导体的能（néng）带结构

半导体的能带结构通常是由一个充满电子的地价带和一个高（gāo）空的高能（néng）导（dǎo）带构（gòu）成，价带和导带之间的（de）区域称为禁带（dài），域的大小称为（wéi）禁带宽度。半导体（tǐ）的禁带宽度一般为0.2～3.0eV是一个不（bú）连（lián）续区域。半导体的光催化特性就是由（yóu）它的特殊能（néng）带结构所决定的。当（dāng）用能（néng）量等于或大于半导体带隙能的光波（bō）辐射半导体时，处于价带上的电子（zǐ）就会被激发（fā）到导带上并在电场作用下迁移到（dào）离子表面，于是在价带上形成（chéng）了空（kōng）穴，从而产生了具有高（gāo）活性的空穴电子对空穴可以夺取半导体表（biǎo）面被吸附物质或溶剂中的电子，使原（yuán）本不（bú）吸收光的物质被激活并（bìng）被氧化，电（diàn）子受（shòu）体通过接受表面的电子而被还原。
2、光催化技术原理
1972年，日本 Fujishima发现了光催化现象。1999年由于纳米技术得到了突破性进展光催化终于正（zhèng）式登上了国际研究舞台。经过多年的研（yán）究和积累，光催化产品的技术与应用（yòng）等已相当成熟。
TiO₂属于一种n型半导体材料，它的禁带宽度为3.2ev(锐钛矿)，当它受到波长小于或等于387.5nm的光(紫（zǐ）外光)照射时，价带的电子就会获得光子的能量而跃迁至导带，形成光生电（diàn）子(e);而价带（dài）中则相应地形成光生空（kōng）穴(h+)，如图9-1所示。

光氧催（cuī）化是（shì）利用TiO₂作为催化剂的（de）光催化（huà）过程，光催化是利用紫外光波照射TIO₂，在有水分的情况下产生羟基自由基(?OH)和活性氧物质(?O_2 ，H₂O?)，其中羟基（jī）自由基(?OH)是（shì）光催化（huà）反应中一种主要（yào）的活性物质，对光催（cuī）化（huà）氧化起决定作用。羟基自由基具有很（hěn）高的反应能(120kJ/molD)，高于有机（jī）物中的各类化学键能，如C-C(83kJ/mol)、C-H(99kJ/mol)、C-N(73kJ/mol)、C-O(84k/mol)、H-O(11lkJ/mol)、N-H(93k/mol)，因而能迅速（sù）有（yǒu）效地分解挥发性有机物和构（gòu）成细菌的有机物，再加上其他活性氧物质(?O2，H2O?)的协同作（zuò）用，其氧化更（gèng）加（jiā）迅速。能氧化绝大部分的有机物及（jí）无机（jī）污染物，将其矿（kuàng）化为无机小分子、CO₂和H₂O

等无害物质。反（fǎn）应过（guò）程如下:

TiO₂+hυ→h⁺+e^-
h⁺ + e^-   → 热能
h⁺+OH^- → ?OH
h⁺+OH^- → ?OH+H⁺
e^-+O₂ → ?O₂^-
O₂+H⁺ → HO₂?
2H₂ O? → O₂+H₂O₂
H₂O₂₊O₂  → ?OH+H⁺+O₂
?OH+dye→…→CO₂+H₂O
H⁺+dye→…→CO₂+H₂O

由机理反应可知，TiO2光催化降解有机物，实质上（shàng）是一种自由（yóu）基（jī）反应。
光催化技术是在设备中添加纳米级活性材料，在紫外光的作用下，产生更为强烈的催化降解功能。纳米活性材料光生空穴的氧化电位以标准氢电位为3.0V，比臭（chòu）氧（yǎng）的2.07V和氯气的1.36V高许多，具有很强的氧化性。在光照射下（xià），活性材料能（néng）吸收（shōu）相当（dāng）于带隙能量以下的光能，使其表面（miàn）发生激励而产生（shēng）电子(e-)和空穴(h+)，这些电子和（hé）空穴具有（yǒu）极强的还（hái）原和（hé）氧化能力，能与水或容存的氧反应（yīng），迅速产生氧化（huà）能力极强的氢氧根自由基(?OH)和超氧阴离子(?O2)。?OH具（jù）有很高的氧化电位，是一种强氧化基（jī）团，它能够氧化大多数有机污染物（wù），使原本不吸收（shōu）光的物质直接氧化分解。

常见的光催化剂多（duō）为金属氧化（huà）物和硫化物，如TiO2、ZnO、CdS、WO₃等，其中TiO₂的综合性能最好，应用最广。

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